基本参数

1、基片尺寸：6吋及以下；

2、样品台旋转：自转速度0～10转/分；

3、基片升降:样品到蒸发源距离可调，250-350mm；

4、操作方式：全自动方式操作；

5、系统总控：人机界面及控制程序；

6、电源：220VAC/50Hz，10KW；

7、机器重量：530kg；

8、机器尺寸：D810mm× W1220mm×H1830mm。

蒸发源、电源及镀膜室

1、蒸发源（金属舟状）1套；

2、金属蒸发电源：2套，3KW/套，数字显示，其中一套为切换蒸发电源；

3、蒸发：水冷电极三组，配有交叉防污染板，自动挡板， 配两套数显蒸发电源功率为3KW；

4、真空室：圆柱形 304 不锈钢腔体，正面开门结构；

5、极限真空：优于 6.67*10-5 Pa；

6、真空系统：采用 FF160/620 分子泵+6-8 升/S 旋片式机械泵组成；

7、真空测量：一低一高数显复合真空计，一只电阻规测量前级预抽低真空，一只电离规测量真空室高真空，全金属规管；

8、抽气时间：大气压~3*10-4 Pa≤40min；

9、恢复工作真空时间：≤35分钟左右（新设备充干氮气）；

10、漏率：关机12小时真空度≤10Pa。

膜厚监测及保护系统

1、配备膜厚监测仪；

2、配备1支石英晶振水冷探头；

3、设备保护系统：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护；具备完善的逻辑程序互锁保护系统。