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氧化扩散炉OXF200
产品型号:OXF200
氧化扩散炉
- 详细内容
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1、尺寸:8英寸圆片,向下兼容6、4、2英寸
2、产量:1~ 60 片/批
3、工艺类型:可满足干氧氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化、扩散等
4、温度控制范围:700℃~1250℃
5、温控区长度:600 mm~800mm
6、温控精度:≤±0.5℃(700℃~1250℃)
7、单点温度稳定性:≤±0.5℃/24h(1100℃);
8、炉体升降温速率:最大升温速率15℃/分钟;
9、气体管路:流量计控制工艺气体流量,保护气体由浮子流量计控制;
10、推舟方式:全自动送舟机构;
11、舟数量:3个;
12、保护功能:具有超温、断偶、热偶短路、气体流量偏差报警和保护功能;
13、工艺控制:工艺过程由工控计算机全自动控制,存储不少于 100条工艺曲线;
14、电源:380VAC/50Hz,120KW;
15、重量:3500Kg;
16、机器外形尺寸:W5000mm×H2300mm×D1300mm。
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