• 氧化扩散炉OXF200 产品型号:OXF200
    氧化扩散炉
详细内容

1、尺寸:8英寸圆片,向下兼容642英寸

2、产量:1~ 60 /

3、工艺类型:可满足干氧氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化、扩散等

4、温度控制范围:700℃~1250

5、温控区长度:600 mm800mm

6、温控精度:≤±0.5℃(700℃~1250℃)

7、单点温度稳定性:≤±0.5/24h1100℃);

8、炉体升降温速率:最大升温速率15/分钟;

9、气体管路:流量计控制工艺气体流量,保护气体由浮子流量计控制;

10、推舟方式:全自动送舟机构;

11、舟数量:3个;

12、保护功能:具有超温、断偶、热偶短路、气体流量偏差报警和保护功能;

13、工艺控制:工艺过程由工控计算机全自动控制,存储不少于 100条工艺曲线;

14、电源:380VAC/50Hz120KW

15、重量:3500Kg

16、机器外形尺寸:W5000mm×H2300mm×D1300mm

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