• 微纳电路化相淀积机PECVD150 产品型号:PECVD150
    微纳电路化相淀积机
详细内容

基本参数

1、淀积尺寸:6吋及以下;

2、淀积材料:SiO2Si3N4、非晶硅、碳化硅等;

3、加热温度:≤300℃;

4、淀积速率:200300 A°/min

5、淀积不均匀度:≤±5%

6、操作方式:半自动控制方式;

7、系统总控:人机界面及控制程序;

8、电源:220VAC/50Hz9KW

9、机器重量:400kg

10、机器尺寸:D810mm× W1220mm×H1830mm

 

电源及沉积室

1、射频电源:13.56MHz,功率1.0KW

2、沉积室规格:单室,Φ400x150mm,不锈钢材质,开门结构;

3、真空度:经烘烤除气后≥3.0×10-5 Pa

4、抽气时间:大气压 ~ 5*10-4 Pa35min

 

测量系统

1、真空计:数显复合真空计1套,测量低真空和高真空;

2、带四路质量/流量控制器。

 

冷却系统

1、配备冷却水循环系统:水冷机设有水流报警系统;

2、保护系统:对水压低等情况进行报警并执行相应保护。

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